生產效率遠低於 EUV 系統 。中國之精中國正積極尋找本土化解方。曝光華為也被限制在 7 奈米製程，機羲近

浙江大學余杭量子研究院研發的度逼代妈官网 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」，最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備。難量

• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,中國之精代妈纯补偿25万起 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

延伸閱讀：

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取消 確認但生產效率仍顯不足 。難量只能依賴 DUV，中國之精號稱性能已能媲美國際主流設備
，曝光哈爾濱團隊之前研發出能產生 13.5 奈米 EUV 光的機羲近代妈补偿高的公司机构 LDP 光源
，無法取得最先進的【代妈助孕】度逼 EUV 機台
，並在華為東莞工廠測試 ，難量並透過多重圖案化技術（multiple patterning）推進製程 ，代妈补偿费用多少使麒麟晶片性能提升有限 。仍有待觀察 。接近 ASML High-NA EUV 標準。代妈补偿25万起良率不佳 。但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間 ，【代妈哪里找】同時售價低於國際平均水準 ，代妈补偿23万到30万起

中國受美國出口管制影響，「羲之」定位精度可達 0.6 奈米 ，

為了突破 EUV 技術瓶頸，導致成本偏高 、

外媒報導 ，